Boletim da SBPMat – 60ª edição – edição especial, prévia ao XVI Encontro da SBPMat.


 

Caso não esteja visualizando corretamente esta mensagem, acesse este link

logo header 400

Boletim da
Sociedade Brasileira
de Pesquisa em Materiais

Edição nº 60. 31 de agosto de 2017.

XVI Encontro da SBPMat/ XVI B-MRS Meeting
Gramado, 10-14 setembro 2017

Mensagem do chair

Caros participantes,
Será um prazer recebe-los no XVI Encontro da SBPMat, na cidade de Gramado (RS) de 10 a 14 de setembro.
Dezesseis anos depois do primeiro encontro anual, nosso evento impressiona com seu grande número de resumos e participantes e com a qualidade das contribuições científicas que serão apresentadas em pôsteres e sessões orais. Neste ano, teremos 22 simpósios, 1 workshop e 1 tutorial. Reuniremos uma rica diversidade de autores e palestrantes do Brasil, América Latina e de vários e distantes lugares do mundo, todos com o objetivo comum de compartilhar ideias e novas perspectivas em um amplo leque de temas científicos e tecnológicos. Teremos também 7 palestras plenárias dos mais prestigiados cientistas em temas de fronteira da Ciência dos Materiais e uma palestra do renomado cientista brasileiro João Alziro H. da Jornada na abertura do encontro.
Tenho certeza de que o evento propiciará interação e colaboração; possibilitando contato com cientistas líderes nas suas áreas, bem como com amigos e colaboradores. No encerramento, serão entregues os prêmios da SBPMat e da ACS Publications para os melhores trabalhos de estudantes.
Espero que o evento seja estimulante e inspirador para todos vocês. Como sempre, visamos alto para promover o desenvolvimento da Ciência e Tecnologia dos Materiais.

Daniel Eduardo Weibel
Coordenador do encontro

weibel

Panorama

Apresentações: Cerca de 2.000 trabalhos devem ser apresentados nas sessões orais e de pôsteres dentro dos 23 simpósios do evento.

Participantes: Até o momento, mais de 1.300 pessoas de 19 países e de todas as regiões do Brasil fizeram suas inscrições para participar do evento.

Leque temático: Estudo, fabricação e modificação de diversos materiais (polímeros, metais, compósitos, hidrogéis, nanomateriais, biomateriais). Aplicação dos materiais nos segmentos de energia, aeronáutica, saúde, eletrônica, bioeletrônica, fotônica, plasmônica, fotocatálise, entre outros. Impacto ambiental da fabricação e segurança do uso de alguns materiais.

Expositores: 24 empresas e instituições estarão presentes nos estandes da exibição.

Veja o programa detalhado, com todas as apresentações orais e pôsteres, aqui.

Veja o programa resumido, aqui.

imagem encontro teste

Informações úteis

Inscrições: Permanecem abertas até o último dia do evento. É possível se associar ou renovar a anuidade da SBPMat durante a inscrição ao evento e assim pagar a inscrição especial para sócios. Atenção: o valor da inscrição ao evento + anuidade SBPMat é menor do que o valor da inscrição ao evento para não sócios. Veja aqui.

Agência de turismo. Opções de vôos, traslados desde o aeroporto e passeios turísticos, aqui.

Serviço de impressão de pôsteres. Veja as opções para retirar seu pôster no centro de convenções, aqui.

Local do evento. FAURGS. Rua São Pedro nº 663. No centro de Gramado, a poucas quadras de restaurantes, lojas, pontos turísticos e hotéis. Veja mapa, aqui.

Aplicativo do evento. Acesse por meio de seu dispositivo móvel: Google map e planta do centro de convenções, fones úteis, programação das apresentações com os respectivos resumos, leitura do QRCode dos pôsteres para obter os dados do trabalho e mais. O app está disponível sem custo nas lojas virtuais da Apple e Google. Busque “XVI B-MRS Meeting”.

Auxílio coletivo Fapesp. Os participantes que se inscreveram no pedido deverão entregar os documentos necessários para receber o reembolso durante o evento na secretaria. Mais informações, aqui.

Festa do encontro. Será na quarta, dia 13, a partir das 21h00, no Harley Motor Show, bar temático de Gramado. Ingressos (limitados) estarão à venda no bar. A festa terá patrocínio de periódicos da ACS Publications.

Destaques da programação

Domingo, dia 10. Minicurso sobre produção e publicação de papers de alto impacto. Será ministrado pelo prof. Valtencir Zucolotto (IFSC-USP) e pela doutora Christiane Barranguet, diretora de publicações de Ciência dos Materiais na Elsevier. Mais informações e inscrições (sem custo), aqui.

workshop

Domingo, dia 10. Palestra memorial “Joaquim da Costa Ribeiro”. A tradicional homenagem da SBPMat será neste ano para o prof. João Alziro H. da Jornada (UFRGS), que proferirá uma palestra sobre novas perspectivas em Ciência de Materiais e inovação no Brasil. Veja entrevista com o prof. Jornada, aqui.

jornada

Segunda, dia 11. Plenária de Hans-Joachim Freund sobre catálise heterogênea. Freund (índice h=97) é diretor do Instituto Fritz-Haber da Sociedade Max-Planck-Gesellschaft (prestigiado instituto de Berlim, Alemanha, dedicado a superfícies e interfaces), onde lidera um grupo de mais de 40 pessoas dedicado a compreender a catálise heterogênea. Saiba mais.

freund

Segunda, dia 11. Plenária de Alexander Yarin sobre nanofibras feitas com resíduos agropecuários por fiação por sopro em solução, e sua aplicações em medicina e meio ambiente. O cientista é Distinguished Professor na Universidade de Illinois em Chicago (EUA), onde coordena um laboratório de pesquisa em e mecânica de fluídos e sólidos de mais de 200 m2. Saiba mais.

yarin

Terça, dia 12. Plenária de Susan Trolier-McKinstry sobre filmes piezoelétricos para sistemas microeletromecânicos. A cientista, que preside atualmente a Materials Research Society, é professora na Penn State (EUA), onde lidera um grupo com ampla experiência em materiais piezoelétricos e seu uso em máquinas microscópicas capazes de executar movimentos em resposta a estímulos do ambiente, com aplicação em energia e saúde, por exemplo. Saiba mais.

susan

Terça, dia 12. Plenária de Kenneth E. Gonsalves sobre materiais para fabricação da próxima geração de circuitos integrados, de menos de 10 nm, por litografia com radiação do ultravioleta extremo. Distinguished Professor do IIT Mandi (Índia), o cientista vem desenvolvendo projetos de P&D para grandes empresas do segmento eletrônico. Saiba mais.

gonsalves

Terça e quarta, dias 12 e 13. Palestras técnicas de empresas. Ao longo de 2 manhãs e tardes, na sala 8, 13 palestras abordarão em profundidade diversas técnicas de caracterização e modificação de materiais e as últimas novidades do mercado na área. Saiba mais.

empresas

Quarta, dia 13. Plenária de Kirk Schanze sobre polieletrólitos conjugados e aplicações em energia e biomateriais. Editor-chefe da ACS Applied Materials & Interfaces desde sua criação, o cientista é professor da Universidade de Texas em San Antonio (UTSA), nos Estados Unidos. Seu grupo de pesquisa é pioneiro em síntese e aplicações dos polímeros conjugados solúveis em água que serão objeto da palestra. Saiba mais.

schanze

Quarta, dia 13. Plenária de Frédéric Guittard sobre materiais superhidrofóbicos inspirados na natureza. Professor da Universidade Nice Sophia Antipolis (França), este cientista e seu grupo estão entre os mais citados do mundo em superfícies hidro e oleofóbicas, inspiradas na natureza e com úteis aplicações como materiais antigelo, anti-incrustação e antibactéria, por exemplo. Saiba mais.

guittard

Quinta, dia 14. Plenária de Pulickel Ajayan sobre desafios e oportunidades da nanotecnologia para os materiais do futuro. Professor da Universidade Rice (EUA), o cientista é dono de um índice h de 144 e é autor de impactantes contribuições no mundo dos nanomateriais, como os nanotubos recheados, a bateria de papel e o tapete de nanotubos ultraescuro. Saiba mais.

ajayan

Quinta, dia 14. Entrega dos prêmios para estudantes. Serão anunciados e premiados o melhor oral e pôster de cada simpósio apresentados por estudantes de graduação e pós-graduação. A editora da American Chemical Society (ACS) outorgará prêmios aos 6 melhores de todo o evento. Para serem considerados vencedores, os autores devem estar presentes na cerimônia. Saiba mais.

acs premios

Siga-nos nas redes sociais e use #16EncontrodaSBPMat em suas postagens

Você pode divulgar novidades, oportunidades, eventos ou dicas de leitura da área de Materiais, e sugerir papers, pessoas e temas para as seções do boletim. Escreva para comunicacao@sbpmat.org.br.
Descadastre-se caso não queira receber mais e-mails

 

 

Entrevista com Kenneth E. Gonsalves (professor do Indian Institute of Technology Mandi, India).


gonsalves_fotoNa corrida por desenvolver chips cada vez menores e de melhor desempenho, várias limitações tecnológicas precisam ser superadas. Hoje, os gargalos para continuar nessa tendência se encontram, principalmente, nas técnicas para fabricar circuitos eletrônicos de menos de 10 nm. Dentre as técnicas que estão sendo aprimoradas para fabricar a próxima geração de chips, uma das mais promissoras é a litografia por luz ultravioleta extrema, conhecida pela sigla em inglês EUVL (extreme ultraviolet lithography), que aproveita o curtíssimo comprimento de onda desse tipo de radiação para gravar circuitos nanométricos em cima dos “resistes” – finas camadas de material sensível à radiação que cobrem o substrato do chip durante sua fabricação.

No XVI Encontro da SBPMat, a palestra plenária da tarde 12 de setembro discutirá uma importante contribuição que a área de materiais pode fazer à fabricação da próxima geração de chips: o desenvolvimento de resistes adequados à fabricação de circuitos eletrônicos de menos de 10 nm por EUVL.

O assunto será apresentado por Kenneth E. Gonsalves, Distinguished Professor do Indian Institute of Technology Mandi (IIT Mandi), instituição indiana de ensino e pesquisa científica e tecnológica criada em 2009, aonde Gonsalves chegou em 2012 como professor visitante.

Gonsalves formou-se em Química pela University of Delhi (India). Depois, fez mestrado, também em Química, no Boston College (EUA) e doutorado na University of Massachusetts at Amherst(EUA), com uma tese sobre síntese de polímeros. Posteriormente, especializou-se em cerâmica polimérica (polymer ceramics) no MIT (EUA). De 2001 a 2014, ele ocupou a cadeira Celanese Acetate de materiais poliméricos na University of North Carolina at Charlotte (EUA).

Junto a seu grupo de pesquisa no instituto indiano e a seus colaboradores dos Estados Unidos, Índia, Brasil e Europa, Gonsalves tem realizado projetos de desenvolvimento de resistes para técnicas de nanofabricação avançadas, contando com financiamento grandes empresas do segmento da eletrônica.

Aqui segue uma breve entrevista com o pesquisador.

Boletim da SBPMat: – Conte-nos um pouco sobre suas principais contribuições científicas / tecnológicas.

Kenneth Gonsalves: – Minha pesquisa centrou-se em polímeros com ênfase na síntese de novos materiais. Nos últimos 20 anos, concentrei-me na tecnologia de resistes para a fabricação de CI (circuitos integrados). Esta é uma área fascinante, pois possui importantes aplicações tecnológicas no desenvolvimento de circuitos integrados, dispositivos de estado sólido. Além disso, também pode ser usada com sucesso em engenharia de células e tecidos para arcabouços (scaffolds) para biotecnologias.

Boletim da SBPMat: – Sobre os resistes nos quais você está trabalhando, quais habilidades são necessárias para desenvolvê-los, na sua opinião? E quando essa próxima geração de chips deverá estar disponível?

Kenneth Gonsalves: – A P&D de resistes é multifacetada e extremamente complexa. Exige colaborações extensas entre químicos orgânicos, inorgânicos e de polímeros. Além disso, a interação com físicos e engenheiros elétricos / eletrônicos é essencial. A próxima geração de chips no nodo de 14 nm está atualmente disponível. A tecnologia de nodos sub 7 nm está prevista para 2018.

Boletim da SBPMat: – Descreva da maneira mais simples e breve possível o processo de EUVL, sem esquecer de mencionar o papel dos resistes.

Kenneth Gonsalves: – Os fótons EUV são gerados por uma fonte de plasma ou síncrotron que opera a um comprimento de onda de 13,5 nm. Através de uma série de espelhos especiais e uma máscara, o modelo pré-designado para a fabricação do circuito integrado é projetado em materiais fotossensíveis, como polímeros e inorgânicos. Tudo isso é conduzido no vácuo, um desafio para a indústria de fabricação de circuitos integrados, uma vez que é uma mudança drástica com relação à atual tecnologia de fotolitografia, que funciona em condições ambientais. O comprimento de onda EUV extremamente curto é um pré-requisito para padrões da escala sub 20 nm. Os desafios para resistes que podem atender aos requisitos de nodo sub 7 nm são enormes. Um novo paradigma é primordial – os resistes híbridos, que são parcialmente inorgânicos, podem fornecer soluções para modelagem nessas escalas. As máscaras rígidas inorgânicas são outra alternativa. A sensibilidade desses fotorresistes deve ser aumentada drasticamente para atender a produção em massa de chips. Existem vários outros parâmetros críticos que devem ser atendidos para um sistema de resistes bem-sucedido. Mais uma vez, isso exige uma colaboração multidisciplinar, multi-institucional e industrial em escala global.

———————————————

Mais Informações

No site da reunião do XVI B-MRS, clique na foto de Kenneth Gonsalves e veja seu mini CV e o resumo de sua palestra plenária: http://sbpmat.org.br/16encontro/home/